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KO50001004-00190074-0039  
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本文公開日
 
タイトル
タイトル Diffusion of phosphorus in silicon  
カナ  
ローマ字  
別タイトル
名前  
カナ  
ローマ字  
著者
名前 安西, 修一郎  
カナ アンザイ, シュウイチロウ  
ローマ字 Anzai, Shūichirō  
所属 lnstructor, Faculty of Engineering, Keio University  
所属(翻訳)  
役割  
外部リンク  

名前 松本, 三郎  
カナ マツモト, サブロウ  
ローマ字 Matsumoto, Saburō  
所属 Late Student, Present address Showa Electrochemical lndustry Ltd.  
所属(翻訳)  
役割  
外部リンク  

名前 下重, 長正  
カナ シモシゲ, チョウセイ  
ローマ字 Shimoshige, Chōsei  
所属 Late Student, Present address Sumitomo Metal lndustries Ltd.  
所属(翻訳)  
役割  
外部リンク  

名前 柳沢, 三郎  
カナ ヤナギサワ, サブロウ  
ローマ字 Yanagisawa, Saburō  
所属 Professor, Faculty of Engineering, Keio University  
所属(翻訳)  
役割  
外部リンク  
 
出版地
東京  
出版者
名前 慶応義塾大学藤原記念工学部  
カナ ケイオウ ギジュク ダイガク フジワラ キネン コウガクブ  
ローマ字 Keio gijuku daigaku Fujiwara kinen kogakubu  
日付
出版年(from:yyyy) 1966  
出版年(to:yyyy)  
作成日(yyyy-mm-dd)  
更新日(yyyy-mm-dd)  
記録日(yyyy-mm-dd)  
形態
 
上位タイトル
名前 Proceedings of the Fujihara Memorial Faculty of Engineering Keio University  
翻訳 慶応義塾大学藤原記念工学部研究報告  
19  
74  
1966  
 
開始ページ 149(39)  
終了ページ 155(45)  
ISSN
 
ISBN
 
DOI
URI
JaLCDOI
NII論文ID
 
医中誌ID
 
その他ID
 
博士論文情報
学位授与番号  
学位授与年月日  
学位名  
学位授与機関  
抄録
The diffusivity of phosphorus into (111) plane of silicon has been measured by means of radioactivated elemental phosphorus and electro-polishing method. The diffusion coefficient has been determined as D=0.12×exp (-2.9eV/kT)cm²/sec. By comparing the activation energy values for diffusion of various atomic species in silicon, it has been found empirically that enthalpy of migration is proportional to square of radius of solute atom.
 
目次

 
キーワード
 
NDC
 
注記

 
言語
英語  
資源タイプ
text  
ジャンル
Departmental Bulletin Paper  
著者版フラグ
publisher  
関連DOI
アクセス条件

 
最終更新日
Aug 27, 2019 12:41:23  
作成日
Dec 09, 2014 15:52:48  
所有者
mediacenter
 
更新履歴
May 17, 2016    
May 18, 2016    インデックス, 著者 を変更
May 18, 2016    インデックス を変更
Aug 27, 2019    著者,著者 ローマ字,出版者 カナ,上位タイトル 名前,ISSN を変更
Aug 27, 2019    著者 ローマ字 を変更
 
インデックス
/ Public / 理工学部 / Keio Science and Technology Reports / 19(1966) / 19(74) 1966
 
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