本研究では, プラズマ処理を用いて, ナノファイバをパターニングする技術を開発した。さらに, パターニングされたナノファイバシートを用いた細胞のパターン培養の可能性を検討した。具体的には, プラズマ処理において, マスクを用いることで, プラズマ処理面および未処理面を同一基板内に得た。そのPDMS基板に対して, ナノファイバを紡糸したところ, ナノファイバはプラズマ処理面に選択的に付着し, パターニングされたナノファイバシートを得た。プラズマ処理条件およびナノファイバ紡糸時の環境条件の最適化により, パターニング精度が向上した。さらに, ナノファイバシート上で細胞パターン培養に成功した。
In this study, the patterning method of electrospun nanofibers by plasma treatment was developed. Additionally, the cell culture on the patterned nanofibers was examined. The PDMS surface was partially modified by using a mask during the plasma treatment. Then, the nanofibers were spun using the treated PDMS as a collector. As a result, the patterned nanofibers were obtained on the PDMS substrate. By adjusting the condition of plasma treatment and electrospinning, the patterned area became clearer. Furthermore, cells were cultured on the patterned nanofibers. As a result, the cell proliferation was enhanced on the patterned nanofibers as compared to the untreated surface.
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